李雪松,电子科技大学及电子科技大学(深圳)高等研究院教授,科睿唯安全球高被引学者,是用化学气相沉积甲烷在铜箔上合成大面积石墨烯薄膜的方法的发明者。清华大学机械工程专业学士、材料加工工程专业硕士,美国伦斯勒理工材料工程专业博士。先后在美国德州大学奥斯汀分校、IBMT.J.沃特森研究中心、耶鲁大学进行博士后和副研究员工作研究。研究领域为石墨烯薄膜的制备与应用。已发表包括Science及Nature等顶级期刊SCI文章80余篇,SCI统计引用次数31000多次。他于2009发表在Science的Large-areasynthesis of high-quality and uniform graphene films on copper foils的工作被Science选为2009年度重大突破之一,引用超过10000次,当前科研及生产中石墨烯薄膜制备基本都基于这一技术。
基于铜基底的化学气相沉积法制备石墨烯薄膜技术在学术研究及工业制备中均得到广泛应用。尤其是近些年来,该技术在石墨烯单晶制备、褶皱控制等方面均获得很大的突破。然而,要真正实现石墨烯薄膜的工业化制备,石墨烯薄膜的可控制备技术及转移技术仍有待提升。本报告将针对大面积、规模化、工业化制备所面临的现实而复杂的条件以及由此而导致的问题进行探讨,并对其发展方向加以展望。
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Abstract: Minyang Lu
Sponsor: Wenyang Yang
Media: Liping Wang
Operated by:China Innovation Alliance of the Graphene Industry